產(chǎn)品簡(jiǎn)介

VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實(shí)現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)，由調(diào)頻電機(jī)控制，自動(dòng)同步運(yùn)行，且往復(fù)位置和運(yùn)動(dòng)速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實(shí)現(xiàn)原點(diǎn)復(fù)位?？捎糜谥苽鋯螌踊蚨鄬予F電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點(diǎn)

• 由傳遞室和濺射鍍膜室兩大部分組成，可實(shí)現(xiàn)快速連續(xù)的進(jìn)樣濺射鍍膜。

• 可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。

• 可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。

• 體積小，操作簡(jiǎn)便。

• 整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，傳遞室、真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。

• 可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù)